文献
J-GLOBAL ID：200902142466627063   整理番号：94A0232562

The effects of the deposition conditions on the composition and properties of PECVD silicon dioxide films.

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著者 (4件)：
CEILER M F JR

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(Georgia Inst. Technology, GA)

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KOHL P A

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BIDSTRUP S A

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MAY G

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資料名：
Proceedings of the 2nd International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials, 1993  (Proceedings of the 2nd International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials, 1993)

Proceedings of the 2nd International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials, 1993 について


ページ： 265-276  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19940183  ISBN： 1-56677-027-0  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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