文献

J-GLOBAL ID：200902142569547793   整理番号：97A0276385

III族窒化膜のリフトオフの光学プロセス

Optical Process for Liftoff of Group III-Nitride Films.

著者 (5件)： KELLY M K (Technische Univ. Munchen, Garching, DEU) ,  AMBACHER O (Technische Univ. Munchen, Garching, DEU) ,  DIMITROV R (Technische Univ. Munchen, Garching, DEU) ,  HANDSCHUH R (Technische Univ. Munchen, Garching, DEU) ,  STUTZMANN M (Technische Univ. Munchen, Garching, DEU)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applied Research  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 159  号： 1  ページ： R3-R4  発行年： 1997年01月16日 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UVパルスレーザを界面に照射してGaNの局所熱分解を誘起する...

シソーラス用語： 窒化ガリウム ,...
準シソーラス用語： リフトオフ

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0276385&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0774A") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： III族 ,  窒化膜 ,  リフトオフ ,  光学 ,  プロセス