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J-GLOBAL ID：200902142746216891   整理番号：02A0833561

パルスレーザアブレーションによる膜及びナノ粒子堆積中のプルーム動力学

Plume dynamics during film and nanoparticles deposition by pulsed laser ablation.
著者 (8件)：
HAN M

HAN M について

(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)

Nanjing Univ., Nanjing, CHN について

, 
GONG Y

GONG Y について

(PLAUST, Nanjing, CHN)

PLAUST, Nanjing, CHN について

, 
ZHOU J

ZHOU J について

(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)

Nanjing Univ., Nanjing, CHN について

, 
YIN C

YIN C について

(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)

Nanjing Univ., Nanjing, CHN について

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SONG F

SONG F について

(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)

Nanjing Univ., Nanjing, CHN について

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MUTO N

MUTO N について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN について

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TAKIYA T

TAKIYA T について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN について

, 
IWATA Y

IWATA Y について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN について


資料名：
Physics Letters. A  (Physics Letters. A)

Physics Letters. A について


巻： 302  号： 4  ページ： 182-189  発行年： 2002年09月23日 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ケイ素

ケイ素 について

,...
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分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

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パルスレーザアブレーション

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ナノ粒子

ナノ粒子 について

, 
堆積

堆積 について

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プルーム

プルーム について

, 
動力学

動力学 について


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