Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈

文献

J-GLOBAL ID：200902142781143864 整理番号：02A0296592

Atomistic Analysis and Electronical Interpretation of Surface Atom Removal Process in Elastic Emission Machining.

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資料名：
巻： 68 号： 3 ページ： 456-460 発行年： 2002年03月05日
JST資料番号： F0268A ISSN： 0912-0289 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

第一原理分子動力学法(MD法)に基づく計算機シミュレーション...

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特殊加工 , 固体デバイス製造技術一般

引用文献 (13件)：

森勇藏. 極限精密加工技術. 精密工学会誌. 1991, 57, 1, 36
山内和人. SPV(Surface Photo-voltage)スペクトロスコピーによる超精密加工表面評価法の開発. 精密工学会誌. 1999, 66, 4, 630
MORI, Y. Activities on Perfect Surfaces in Osaka University, Ultra Precision Machining Research Center. JSPE Publication Series 3, Precision Science and Technology for Perfect Surfaces. 1999, iii
MORI, Y. Development of Numerically Controlled EEM (Elastic Emission Machining)System for Ultraprecision Figuring and Smoothing of Aspherical Surfaces, Ultra Precision Machining Research Center. JSPE Publication Series 3, Precision Science and Technology for Perfect Surfaces. 1999, 207
YAMAUCHI, K. First-principles simulations of removal process in EEM (Elastic Emission Machining). Computational Material Science. 1999, 14, 232

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