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J-GLOBAL ID:200902142945038200   整理番号:02A0035829

液晶ディスプレイ用リソグラフィー技術の現状

The Current Lithography Technologies of the LCD Exposure System.
著者 (1件):
資料名:
巻: J84-C  号: 12  ページ: 1227-1231  発行年: 2001年12月01日 
JST資料番号: S0623C  ISSN: 1345-2827  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (2件):
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表示機器  ,  固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (4件):
  • 柳原政光. 露光装置. 2000FPDテクノロジー大全, 電子ジャーナル. 1999, 199-202
  • 森英敏. LCD用露光装置の最新動向. 月刊LCD Intelligence, プレスジャーナル. 1997, 55-59
  • 間潤治. 低温Poly-Si TFT-LCD製造用露光装置. 月刊LCD Intelligence, プレスジャーナル. 1998, 80-83
  • 田中正司. 露光装置および露光方法
タイトルに関連する用語 (3件):
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