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J-GLOBAL ID：200902144109789287   整理番号：98A0769150

ベンジル型保護基の合理的設計は触媒水素化分解によるヒドロキシル基の逐次脱保護を可能にする

Rational Design of Benzyl-Type Protecting Groups Allows Sequential Deprotection of Hydroxyl Groups by Catalytic Hydrogenolysis.

著者 (3件)： GAUNT M J (Univ. Chemical Lab., Cambridge, GBR) ,  YU J (Univ. Chemical Lab., Cambridge, GBR) ,  SPENCER J B (Univ. Chemical Lab., Cambridge, GBR)
資料名： Journal of Organic Chemistry  (Journal of Organic Chemistry)
巻： 63  号： 13  ページ： 4172-4173  発行年： 1998年06月26日 
JST資料番号： C0328A  ISSN： 0022-3263  CODEN： JOCEAH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ベンジル型保護基において置換基により芳香環の電子的性質を変え...

シソーラス用語： 水素化分解 ,...
準シソーラス用語： ナフタレン誘導体

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分類 (1件)： 芳香族単環エーテル  (CF05080K)

物質索引 (10件)： 1-(ベンジルオキシ)-2-(2-ナフチルメチル)エタン ,  2-(ベンジルオキシ)エタノール ,  メチル2-O,3-O,4-O-トリベンジル-6-O-(2-ナフチルメチル)-α-D-マンノピラノシド ,  メチル2-O,3-O,4-O-トリベンジル-α-D-マンノピラノシド ,  1-(ベンジルオキシ)-2-(2-ナフチルメチル)ベンゼン ,  2-(ベンジルオキシ)フェノール ,  4-(2-ナフチルメチル)-3,4-ジヒドロ-2H-1-ベンゾピラン ,  3,4-ジヒドロ-2H-1-ベンゾピラン-4-オール ,  (ベンジルオキシ)酢酸2-(2-ナフチルメチルオキシ)プロピル ,  (ベンジルオキシ)酢酸2-ヒドロキシプロピル

タイトルに関連する用語 (7件)： ベンジル ,  保護基 ,  設計 ,  触媒水素化 ,  分解 ,  ヒドロキシル基 ,  逐次