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J-GLOBAL ID：200902145032133673   整理番号：02A0128326

シリカキセロゲル膜の弾性率に及ぼす製造履歴の影響

Effects of processing history on the modulus of silica xerogel films.

著者 (7件)： JAIN A (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  ROGOJEVIC S (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  GILL W N (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  PLAWSKY J L (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  MATTHEW I (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  TOMOZAWA M (Rensselaer Polytechnic Inst., New York) ,  SIMONYI E (IBM, New York)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 90  号： 11  ページ： 5832-5834  発行年： 2001年12月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 焼結キセロゲル膜(多孔質SiO₂)は同...

シソーラス用語： *キセロゲル ,...
準シソーラス用語： *シリカ ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 弾性率 ,  履歴