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J-GLOBAL ID：200902145166538190   整理番号：96A0391002

パルスエキシマレーザにより結晶化した非晶質シリコン内の表面張力波

Capillary waves in pulsed excimer laser crystallized amorphous silicon.

著者 (5件)： FORK D K (Xerox Palo Res. Center, California) ,  ANDERSON G B (Xerox Palo Res. Center, California) ,  BOYCE J B (Xerox Palo Res. Center, California) ,  JOHNSON R I (Xerox Palo Res. Center, California) ,  MEI P (Xerox Palo Res. Center, California)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 68  号： 15  ページ： 2138-2140  発行年： 1996年04月08日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 石英上の非晶質シリコンの短パルスレーザ結晶化では,シリコン融...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルス ,  エキシマレーザ ,  結晶化 ,  非晶質シリコン ,  表面張力波