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J-GLOBAL ID：200902145360779068   整理番号：02A0686139

低圧MO-CVD法により作製したc軸配向の大形粒子ZnO膜の特性

Characteristics of c-axis oriented large grain ZnO films prepared by low-pressure MO-CVD method.

著者 (6件)： KASHIWABA Y (Sendai National Coll. Technol., Sendai, JPN) ,  SUGAWARA K (Sendai National Coll. Technol., Sendai, JPN) ,  HAGA K (Sendai National Coll. Technol., Sendai, JPN) ,  WATANABE H (Sendai National Coll. Technol., Sendai, JPN) ,  ZHANG B P (Photodynamics Res. Center, RIKEN, Sendai, JPN) ,  SEGAWA Y (Photodynamics Res. Center, RIKEN, Sendai, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 411  号： 1  ページ： 87-90  発行年： 2002年05月22日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (Zn(C₅H₇...

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,...

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

物質索引 (1件)： アセチルアセトン

タイトルに関連する用語 (7件)： 低圧 ,  Mo ,  CVD法 ,  作製 ,  c軸配向 ,  大形 ,  ZnO