ウェーハ表面残留有機物の酸化膜の信頼性に及ぼす影響

文献

J-GLOBAL ID：200902145617065576 整理番号：94A0476244

Effect of organic compounds on Si for gate oxide reliability.

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資料名：
巻： 41st 号： Pt 2 ページ： 650 発行年： 1994年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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