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J-GLOBAL ID：200902145709616030   整理番号：01A0049892

背景渦度分布の中の電子-プラズマ渦のダイナミクス

Dynamics of Electron-Plasma Vortex in Background Vorticity Distribution.

著者 (4件)： KIWAMOTO Y (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  ITO K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  SANPEI A (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MOHRI A (Inst. Physical and Chemical Res., Wako, JPN)
資料名： Physical Review Letters  (Physical Review Letters)
巻： 85  号： 15  ページ： 3173-3176  発行年： 2000年10月09日 
JST資料番号： H0070A  ISSN： 0031-9007  CODEN： PRLTAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 背景渦度の広い分布との相互作用における点渦のダイナミクスを,...

シソーラス用語： *渦 ,...

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分類 (1件)： プラズマ流,プラズマの電磁流体力学  (BJ02040I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 背景 ,  渦度 ,  分布 ,  電子 ,  プラズマ ,  渦 ,  ダイナミクス