文献

J-GLOBAL ID：200902145957491820   整理番号：94A0179471

高解像度光リソグラフィにおける結像位置精度の検討 (3) 表面形状評価法への応用

Study on evaluation method of surface flatness using phase-shifting mask.

著者 (3件)： 今井彰 (日立 中研) ,  寺沢恒男 (日立 中研) ,  長谷川昇雄 (日立 中研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 54th  号： 2  ページ： 551  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高解像度 ,  光リソグラフィ ,  結像位置 ,  表面形状 ,  評価法 ,  応用