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J-GLOBAL ID:200902146187043510   整理番号:93A0413819

ECR源における多荷イオン発生のモデリング

Modelling for Production of Multicharged Ions in ECR Source.
著者 (3件):
資料名:
巻: 62  号:ページ: 1221-1232  発行年: 1993年04月 
JST資料番号: G0509A  ISSN: 0031-9015  CODEN: JUPSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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2.45GHzマイクロ波を用いて,タンデム型ミラー磁場構成で...
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分類 (1件):
分類
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電子源,イオン源 
引用文献 (27件):
  • 1) Y. Jongen and C. M. Lyneis: The Physics and Technology of Ion Sources, ed. I. G. Brown (Wiley International Publication, New York, 1989) p . 207.
  • 2) R. Geller: Proc. 8th Int. Conf on Cyclotrons and Their Applications, Bloomington, Indiana, 1978, IEEE, p. 2120.
  • 3) F. Bourd, R. Geller, B. Jacquot and M. Pontonnier: Proc. 4th Int. Workshop on ECR Ion Sources and Related Topics, Grenoble, 1982 (Centre d’Études Nuclèaires-Grenoble Press) p. 5.1.
  • 4) S. Ishii: Nucl. Instrum. & Methods B<B>55</B> (1991) 296.
  • 5) S. Ishii, H. Amemiya and M. Yanokura: Jpn. J. Appl. Phys. 25 (1986) L712.
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