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J-GLOBAL ID：200902146907542501   整理番号：02A0610123

走査拡がり抵抗顕微鏡を用いたInPベースデバイスの三次元キャリアプロファイリング

Three-dimensional carrier profiling of InP-based devices using scanning spreading resistance microscopy.

著者 (3件)： XU M W (IMEC, Leuven, BEL) ,  HANTSCHEL T (IMEC, Leuven, BEL) ,  VANDERVORST W (IMEC, Leuven, BEL)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 81  号： 1  ページ： 177-179  発行年： 2002年07月01日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡(AFM)法に基づく走査広がり抵抗顕微鏡(SS...

シソーラス用語： *走査型プローブ顕微鏡 ,...

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分類 (3件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (4件)： 走査 ,  拡がり ,  顕微鏡 ,  InP