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J-GLOBAL ID：200902147205425287   整理番号：00A0294341

SPD法による化合物半導体薄膜の形成 (1) スプレー熱分解(SPD)法の概要と酸化スズ透明導電膜形成への応用

An Outline of a Spray Pyrolysis Deposition and Its Application to the Preparation of SnO₂ Thin Films as Transparent Electrodes.

著者 (1件)： 金子正治 (静岡大 工)
資料名： 機能材料  (Function & Materials)
巻： 20  号： 3  ページ： 5-13  発行年： 2000年03月 
JST資料番号： Y0021A  ISSN： 0286-4835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 化学的薄膜形成法のひとつであり,筆者らが開発した間欠式スプレ...

シソーラス用語： *半導体薄膜 ,...

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (8件)： SPD ,  半導体薄膜 ,  スプレー熱分解 ,  法 ,  概要 ,  酸化スズ ,  透明導電膜 ,  応用