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J-GLOBAL ID：200902147487310363   整理番号：00A0908572

Design Strategies for 157nm Single-Layer Photoresists: Lithographic Evaluation of a Poly(α-trifluoromethyl vinyl alcohol) Copolymer.

著者 (5件)： SCHMALJOHANN D (Cornell Univ., NY) ,  BAE Y C (Cornell Univ., NY) ,  WEIBEL G L (Cornell Univ., NY) ,  HAMAD A H (Cornell Univ., NY) ,  OBER C K (Cornell Univ., NY)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3999  号： Pt.1  ページ： 330-334  発行年： 2000年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： DESIGN