文献

J-GLOBAL ID：200902147672379710   整理番号：93A0424281

イオン衝撃による薄膜中の圧縮応力の形成に対する簡単な模型

A simple model for the formation of compressive stress in thin films by ion bombardment.

著者 (1件)： DAVIS C A (Univ. Sydney, NSW, AUS)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 226  号： 1  ページ： 30-34  発行年： 1993年04月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 活性イオンあるいは原子を同時衝撃して蒸着した薄膜における圧縮...

シソーラス用語： 薄膜成長 ,...
準シソーラス用語： イオンビーム支援蒸着

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0424281&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (3件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (4件)： イオン衝撃 ,  薄膜 ,  圧縮応力 ,  模型