文献
J-GLOBAL ID：200902148024815926   整理番号：93A0961239

Measurement of Plasma Electron Density in EACVD by Microwave Interference Method.

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著者 (6件)：
CAO J

CAO J について

(Univ. Science and Technology of China, Hefei)

Univ. Science and Technology of China, Hefei について

, 
YU C

YU C について

(Univ. Science and Technology of China, Hefei)

Univ. Science and Technology of China, Hefei について

, 
ZHAN R

ZHAN R について

(Univ. Science and Technology of China, Hefei)

Univ. Science and Technology of China, Hefei について

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GAO K

GAO K について

(Univ. Science and Technology of China, Hefei)

Univ. Science and Technology of China, Hefei について

, 
QI L

QI L について

(Research Inst. Synthetic Crystals, Beijing)

Research Inst. Synthetic Crystals, Beijing について

, 
YANG P

YANG P について

(Research Inst. Synthetic Crystals, Beijing)

Research Inst. Synthetic Crystals, Beijing について


資料名：
Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)

Rengong Jingti Xuebao について


巻： 22  号： 3  ページ： 304-307  発行年： 1993年08月 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

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