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J-GLOBAL ID：200902148280340242   整理番号：94A0936169

スチレンの高エナンチオ選択的低温エポキシ化

Highly Enantioselective, Low-Temperature Epoxidation of Styrene.

著者 (4件)： PALUCKI M (Harvard Univ., Massachusetts) ,  POSPISIL P J (Harvard Univ., Massachusetts) ,  ZHANG W (Harvard Univ., Massachusetts) ,  JACOBSEN E N (Harvard Univ., Massachusetts)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 116  号： 20  ページ： 9333-9334  発行年： 1994年10月05日 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： C₆H₅-CH(...

シソーラス用語： エポキシ化 ,...
準シソーラス用語： スチレン ,...

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分類 (2件)： 触媒の性質一般  (CB06121R) ,  三員複素環化合物  (CF07050R)

物質索引 (1件)： フェニルオキシラン

タイトルに関連する用語 (3件)： スチレン ,  低温 ,  エポキシ化