シリコン中の浅い水素関連ドナー

HARTUNG J; WEBER J

文献

J-GLOBAL ID：200902150221851882 整理番号：94A0063467

シリコン中の浅い水素関連ドナー

Shallow hydrogen-related donors in silicon.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=94A0063467&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0063467&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0746A") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 48 号： 19 ページ： 14161-14166 発行年： 1993年11月15日
JST資料番号： D0746A ISSN： 1098-0121 CODEN： PRBMDO 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

中性子を照射し,続いて水素プラズマ処理したシリコンの光熱イオ...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0063467&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0746A") }}

不純物・欠陥の電子構造

, ,

前のページに戻る