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J-GLOBAL ID：200902150773284958   整理番号：93A0890839

痕跡量の2価金属イオンのイミノ二酢酸基含有キレート樹脂への収着機構

Sorption Mechanism of Trace Amounts of Divalent Metal Ions on a Chelating Resin Containing Iminodiacetate Groups.

著者 (4件)： PESAVENTO M (Univ. Pavia, Pavia, ITA) ,  BIESUZ R (Univ. Pavia, Pavia, ITA) ,  GALLORINI M (Univ. Pavia, Pavia, ITA) ,  PROFUMO A (Univ. Pavia, Pavia, ITA)
資料名： Analytical Chemistry  (Analytical Chemistry)
巻： 65  号： 18  ページ： 2522-2527  発行年： 1993年09月15日 
JST資料番号： A0395A  ISSN： 0003-2700  CODEN： ANCHAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販の表題キレート樹脂Chelex 100によるCu,Ni,...

シソーラス用語： 吸着平衡 ,...
準シソーラス用語： キレート高分子 ,...

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分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  イオン交換  (CC01020L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 痕跡 ,  2価金属イオン ,  イミノ二酢酸 ,  キレート樹脂 ,  収着機構