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J-GLOBAL ID：200902151325637803   整理番号：96A0400900

シリコン基質上にパルスレーザで沈着したヒドロキシアパタイト薄フィルムの前処理と二重定数組成溶出速度論

Pre-conditioning and dual constant composition dissolution kinetics of pulsed laser deposited hydroxyapatite thin films on silicon substrates.

著者 (5件)： TUCKER B E (SUNY at Buffalo, NY, USA) ,  COTTELL C M (Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  AUYEUNG R C Y (Sachs-Freeman Associates, MD, USA) ,  SPECTOR M (Brigham and Women’s Hospital, MA, USA) ,  NANCOLLAS G H (SUNY at Buffalo, NY, USA)
資料名： Biomaterials  (Biomaterials)
巻： 17  号： 6  ページ： 631-637  発行年： 1996年03月 
JST資料番号： C0964B  ISSN： 0142-9612  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ沈着(PLD)法で生成したヒドロキシアパタイトフ...

シソーラス用語： ヒドロキシアパタイト ,...

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分類 (1件)： 歯科材料  (GT06000B)

タイトルに関連する用語 (9件)： シリコン ,  基質 ,  パルスレーザ ,  沈着 ,  ヒドロキシアパタイト ,  薄フィルム ,  定数 ,  組成 ,  溶出速度