文献
J-GLOBAL ID：200902152145429044   整理番号：94A0079021

Amplitude dependence of metastable defect formation.

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著者 (3件)：
JACKSON W B

JACKSON W B について

(Xerox Palo Alto Research Center, CA)

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, 
NEBEL C

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(Xerox Palo Alto Research Center, CA)

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, 
STREET R A

STREET R A について

(Xerox Palo Alto Research Center, CA)

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資料名：
Amorphous Silicon Technology - 1993  (Amorphous Silicon Technology - 1993)

Amorphous Silicon Technology - 1993 について


ページ： 249-254  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930659  ISBN： 1-55899-193-X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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