化学気相蒸着によりSi(100)上に作製したZrO<sub>2</sub>超薄膜の熱安定性

JEON T S; WHITE J M; KWONG D L

文献

J-GLOBAL ID：200902152468440268 整理番号：01A0310685

化学気相蒸着によりSi(100)上に作製したZrO₂超薄膜の熱安定性

Thermal stability of ultrathin ZrO₂ films prepared by chemical vapor deposition on Si(100).

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巻： 78 号： 3 ページ： 368-370 発行年： 2001年01月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

標記のゲート絶縁膜用高誘電率ZrO₂超...

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誘電体一般 , 酸化物薄膜

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化学気相蒸着によりSi(100)上に作製したZrO2超薄膜の熱安定性

化学気相蒸着によりSi(100)上に作製したZrO₂超薄膜の熱安定性