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J-GLOBAL ID：200902152961101383   整理番号：00A0852498

ガスセンサに応用するためのNiO薄膜の作製と評価

Preparation and characterization of NiO thin films for gas sensor applications.

著者 (5件)： HOTOVY I (Slovak Univ. Technol., Bratislava, SVK) ,  HURAN J (Inst. Electrical Engineering, Slovak Acad. Sci., Dubravska cesta, SVK) ,  SPIESS L (Technical Univ. Ilmenau, Ilmenau, DEU) ,  CAPKOVIC R (Slovak Univ. Technol., Bratislava, SVK) ,  HASCIK S (Inst. Electrical Engineering, Slovak Acad. Sci., Dubravska cesta, SVK)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 58  号： 2/3  ページ： 300-307  発行年： 2000年08月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ar+O₂の混合気体中でdc反応性マグ...

シソーラス用語： *酸化ニッケル ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の固体デバイス  (NC03150A)

タイトルに関連する用語 (6件)： ガスセンサ ,  応用 ,  NiO ,  薄膜 ,  作製 ,  評価