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J-GLOBAL ID：200902153022560339   整理番号：01A0088186

KrFレーザとArFレーザを用いた高透過減衰位相シフトマスクの光学定数範囲のシミュレーション

Simulation of Optical Constants Range of High-Transmittance Attenuated Phase-Shifting Masks Used in KrF Laser and ArF Laser.

著者 (5件)： KIM E (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  MOON S-Y (Samsung Electronics Co., Ltd., Kyongki-do, KOR) ,  KIM Y-H (Samsung Electronics Co., Ltd., Kyongki-do, KOR) ,  YOON H-S (Samsung Electronics Co., Ltd., Kyongki-do, KOR) ,  NO K (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 11  ページ： 6321-6328  発行年： 2000年11月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 露光波長で透過率20±5%と位相シフト180°を持ち,検査波...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 消衰係数

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分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (27件)：

• 1) J. R. Sheats and B. W. Smith: Microlithography (Marcel Dekker, New York, 1998) p. 1.
• 2) J. H. Bruning: Solid State Technol. (1998) November, 59.
• 3) R. DeJule: Semicond. Int. (1999) June, 64.
• 4) L. F. Thompson, C. G. Willson and M. J. Bowden: Introduction to Microlithography (American Chemical Society, Washington, DC, 1994) 2nd ed., p. 78.
• 5) M. D. Levenson, N. S. Viswanathan and R. A. Simpson: IEEE Trans. Electron Devices 29 (1982) 1828.

タイトルに関連する用語 (6件)： KrFレーザ ,  ArFレーザ ,  透過 ,  減衰位相シフトマスク ,  光学定数 ,  シミュレーション