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J-GLOBAL ID：200902153147621879   整理番号：01A0506016

高い磁気抵抗を持つトンネル接合の微細加工と磁気電気特性

Microfabrication and Magnetoelectric Properties of High-magnetoresistance Tunnel Junctions.

著者 (7件)： HAN X F (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OOGANE M (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  DAIBOU T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAOITA K (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ANDO Y (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KUBOTA H (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MIYAZAKI T (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： 日本応用磁気学会誌  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 25  号： 4-2  ページ： 707-710  発行年： 2001年04月15日 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 0285-0192  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ta/Ni₇₉Fe<sub>21</s...

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： スピン-電子分極トンネル模型 ,...

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分類 (2件)： その他の接合  (BM03088W) ,  固体デバイス一般  (NC03010Z)

引用文献 (8件)：

• 1) T. Miyazaki and N. Tezuka : J. Magn. Magn. Mater., 139, L231 (1995).
• 2) J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey : Phys. Rev. Lett., 74, 3273 (1995).
• 3) S. Zhang and P. M. Levy, A. C. Marley, and S. S. P. Parkin : Phys. Rev. Lett., 79, 3744 (1997).
• 4) X. F. Han M. Oogane, H. Kubota, Y. Ando, and T. Miyazaki : Appl. Phys. Lett., 77, 283 (2000).
• 5) John G. Simmons : J. Appl. Phys., 34, 1793 (1963).

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁気抵抗 ,  トンネル接合 ,  微細加工 ,  磁気 ,  電気特性