原子間力顕微鏡を用いたふっ素化単分子層の摩擦特性の系統的研究  CF<sub>3</sub>およびCH<sub>3</sub>末端基膜の比較

KIM H I; KOINI T; LEE T R; PERRY S S

文献

J-GLOBAL ID：200902153196658001 整理番号：98A0212459

原子間力顕微鏡を用いたふっ素化単分子層の摩擦特性の系統的研究 CF₃およびCH₃末端基膜の比較

Systematic Studies of the Frictional Properties of Fluorinated Monolayers with Atomic Force Microscopy: Comparison of CF₃- and CH₃-Terminated Films.

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巻： 13 号： 26 ページ： 7192-7196 発行年： 1997年12月24日
JST資料番号： A0231B ISSN： 0743-7463 CODEN： LANGD5 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ふっ素化自己集合単分子層の摩擦特性の分子レベルでの知見を最近...

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固体の機械的性質一般

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原子間力顕微鏡を用いたふっ素化単分子層の摩擦特性の系統的研究 CF3およびCH3末端基膜の比較

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