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J-GLOBAL ID：200902153309443228   整理番号：95A0105374

大出力ArFエキシマレーザーを用いた酸化物高温超電導薄膜の大型化

Large-size High Temperature Superconducting Thin Film by High Power ArF Excime Laser.

著者 (5件)： 永石竜起 (住友電気工業) ,  糸崎秀夫 (住友電気工業) ,  板倉康夫 (コマツ 基礎技研) ,  納富良一 (コマツ 基礎技研) ,  八木隆志 (産業創造研)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 22  号： 11  ページ： 926-934  発行年： 1994年11月 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： レーザ蒸着法における大面積薄膜作製のため,基板偏心回転成膜法...

シソーラス用語： アルゴン化合物 ,...
準シソーラス用語： 大出力レーザ

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  レーザの応用  (BD04100V)

引用文献 (11件)：

• 1) T. Nagaishi, H. Itozaka, S. Tanaka, T. Matsuura, N. Ota, N. Fujimori and S. Yazu: Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) L718.
• 2) S. Tanaka, H. Itozaki, H. Toyoda, N. Harada, A. Adachi, K. Okajima, H. Kado and T. Nagaishi: Appl. Phys. Lett. 64 (1994) 514.
• 3) H. Tabata, O. Murata, T. Kawai, S. Kawai and M. Okuyama: Jpn. J. Appl. Phys. 31 9B (1992) 2968.
• 4) M. Okuyama, J. Asano, T. Imai, D. Lee and Y. Hamakawa: Jpn. J. Appl. Phys. 32 9B (1993) 4107.
• 5) P. Tiwari, T. Zheleva and J. Narayan: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 30.

タイトルに関連する用語 (5件)： ArFエキシマレーザー ,  酸化物 ,  高温超電導 ,  薄膜 ,  大型