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J-GLOBAL ID：200902153762977802   整理番号：97A0291256

ビームによるイオン注入法 高い組入れ水準の原子を保有するかご形分子の新合成法

Beam Implantation: A New Method for Preparing Cage Molecules Containing Atoms at High Incorporation Levels.

著者 (3件)： SHIMSHI R (Yale Chemistry Dep., Connecticut) ,  CROSS R J (Yale Chemistry Dep., Connecticut) ,  SAUNDERS M (Yale Chemistry Dep., Connecticut)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 119  号： 5  ページ： 1163-1164  発行年： 1997年02月05日 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フラーレンのようなかご形分子内部に原子の組入れは理論的にも実...

シソーラス用語： イオン注入 ,...
準シソーラス用語： かご型分子

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分類 (2件)： イオンとの相互作用  (BK16070Z) ,  分子化合物  (CE02000C)

タイトルに関連する用語 (9件)： ビーム ,  イオン注入法 ,  組入れ ,  水準 ,  原子 ,  保有 ,  かご ,  分子 ,  合成法