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J-GLOBAL ID：200902154445135266   整理番号：98A0868526

プラズマ増強化学蒸着で成長させたa-C:H/SiC:Hコンポジット膜の特性に対するガス組成とrfパワーの影響

Effects of gas composition and r.f. power on properties of a-C:H/SiC:H composite films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition.

著者 (3件)： YI J W (Drexel Univ., PA, USA) ,  LEE Y H (Drexel Univ., PA, USA) ,  FAROUK B (Drexel Univ., PA, USA)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 326  号： 1/2  ページ： 154-159  発行年： 1998年08月04日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記コンポジット膜は25°C,13.56MHzのrf駆動非対称...

シソーラス用語： *薄膜成長 ,...
準シソーラス用語： 禁止帯 ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ増強化学蒸着 ,  成長 ,  SiC ,  コンポジット膜 ,  ガス組成 ,  RF ,  パワー