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J-GLOBAL ID：200902154893255833   整理番号：99A0923943

TCAD統合システムによるプロセス最適化

Development of TCAD framework for Process Optimization.

著者 (7件)： 倉満晶子 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ) ,  大原完治 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ) ,  奥間啓二 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ) ,  小林睦 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ) ,  南里江 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ) ,  小田嘉則 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ) ,  黒田敬司 (松下電子工業 半導体社 プロセス開セ)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 99  号： 262(VLD99 52-63)  ページ： 61-66  発行年： 1999年08月27日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,半導体プロセスの微細化・高集積化に伴い,各種特性値の最...

シソーラス用語： *CAD【計算機】 ,...

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分類 (1件)： 集積回路一般  (NC03161C)

タイトルに関連する用語 (3件)： TCAD ,  統合システム ,  プロセス最適化