文献

J-GLOBAL ID：200902155805416403   整理番号：00A0327275

スパッタ蒸着した窒素ドープ非晶質Ge₂Sb₂Te₅薄膜の結晶化の挙動

Investigation of Crystallization Behavior of Sputter-Deposited Nitrogen-Doped Amorphous Ge₂Sb₂Te₅ Thin Films.

著者 (6件)： SEO H (LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR) ,  JEONG T-H (LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR) ,  PARK J-W (LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR) ,  YEON C (LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR) ,  KIM S-J (Ajou Univ., Suwon, KOR) ,  KIM S-Y (Ajou Univ., Suwon, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 2B  ページ： 745-751  発行年： 2000年02月28日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微分走査形熱量計,その場偏光解析法およびその場透過型電子顕微...

シソーラス用語： *金属薄膜 ,...

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分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (9件)：

• 1) J. Feinleib, J. de Neufville, S. C. Moss and S. R. Ovshinsky: Appl. Phys. Lett. 18 (1971) 254.
• 2) J. Gonzalez-Hernandez, B. S. Chao, D. Strand, S. R. Ovshinsky, D. Pawlik and P. Gasiorowski: Appl. Phys. Commun. 11 (1992) 557.
• 3) N. Yamada, E. Ohno, K. Nishiuchi, N. Akahira and M. Takao: J. Appl. Phys. 69 (1991) 2849.
• 4) T. H. Jeong, M. R. Kim, H. Seo, S. J. Kim and S. Y. Kim: J. Appl. Phys. 86 (1999) 774.
• 5) R. Kojima, S. Okabayashi, T. Kashihara, K. Horail, T. Matshunaga, E. Ohno, N. Yamada and T. Ohta: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 2098.

タイトルに関連する用語 (6件)： スパッタ蒸着 ,  窒素ドープ ,  非晶質 ,  薄膜 ,  結晶化 ,  挙動