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J-GLOBAL ID：200902156277938180   整理番号：01A0791086

光で下限臨界温度が変化するポリアクリルアミドの合成

著者 (2件)： 秋山陽久 (産業技術総合研) ,  玉置信之 (産業技術総合研)
資料名： 高分子学会予稿集  (Polymer Preprints, Japan)
巻： 50  号： 4  ページ： 703  発行年： 2001年05月07日 
JST資料番号： Z0703B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリアクリルアミド ,...

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分類 (1件)： その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (2件)： N-[2-[4′-(エトキシカルボニル)アゾベンゼン-4-イルオキシ]エチル]アクリルアミド ,  N-[2-(3′-イソプロピルアゾベンゼン-4-イルオキシ)エチル]アクリルアミド

タイトルに関連する用語 (3件)： 下限 ,  臨界温度 ,  ポリアクリルアミド