文献
J-GLOBAL ID：200902156308581448   整理番号：93A0904236

Direct deposition reactions between nickel and silicon substrates.

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0904236&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=K19930546") }}
著者 (2件)：
ZHANG L

ZHANG L について

(Univ. Alberta, Alberta, CAN)

Univ. Alberta, Alberta, CAN について

, 
IVEY D G

IVEY D G について

(Univ. Alberta, Alberta, CAN)

Univ. Alberta, Alberta, CAN について


資料名：
Phase Transformations in Thin Films - Thermodynamics and Kinetics  (Phase Transformations in Thin Films - Thermodynamics and Kinetics)

Phase Transformations in Thin Films - Thermodynamics and Kinetics について


ページ： 335-340  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930546  ISBN： 1-55899-207-3  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM