自己組織化単分子膜のフォトリソグラフィー 電気分析的方法による保護基の最適化

JENNANE J; BOUTROS T; GIASSON R

文献

J-GLOBAL ID：200902156443586344 整理番号：97A0247691

自己組織化単分子膜のフォトリソグラフィー電気分析的方法による保護基の最適化

Photolithography of self-assembled monolayers: optimization of protecting groups by an electroanalytical method.

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巻： 74 号： 12 ページ： 2509-2517 発行年： 1996年12月
JST資料番号： B0228A ISSN： 0008-4042 CODEN： CJCHAG 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：カナダ (CAN) 言語：英語 (EN)

三種の異なる光不安定性保護基を用いた自己組織化単分子膜-フォ...

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固-液界面

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