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J-GLOBAL ID：200902156577100880   整理番号：93A0835011

ほう素膜の窒素イオン注入による六方晶窒化ほう素合成

Hexagonal boron nitride synthesis by nitrogen ion implantation of boron films.
著者 (2件)：
BAAZI T

BAAZI T について

(Univ. Laval, Qu<span style=text-decoration:overline>e ́</span>., CAN)

Univ. Laval, Qu<span style=text-decoration:overline>e ́</span>., CAN について

, 
KNYSTAUTAS E J

KNYSTAUTAS E J について

(Univ. Laval, Qu<span style=text-decoration:overline>e ́</span>., CAN)

Univ. Laval, Qu<span style=text-decoration:overline>e ́</span>., CAN について


資料名：
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

Thin Solid Films について


巻： 232  号： 2  ページ： 185-193  発行年： 1993年09月25日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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電子銃加熱したタンタルるつぼからBを蒸発させ,KBrディスク...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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イオン注入

イオン注入 について

,...
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分類 (2件)：
分類
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その他の無機化合物の薄膜 
(BK14060A)

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,  気相めっき 
(WC08022K)

気相めっき について

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ほう素

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窒素イオン

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注入

注入 について

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六方晶窒化ほう素

六方晶窒化ほう素 について


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