文献

J-GLOBAL ID：200902156804233832   整理番号：98A0736288

表面改質のためのPSII技術の進歩

Advances in PSII techniques for surface modification.

著者 (9件)： WALTER K C (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  NASTASI M (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  BAKER N P (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  MUNSON C P (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  SCARBOROUGH W K (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  SCHEUER J T (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  SRIDHARAN K (Univ. Wisconsin Madison, WI, USA) ,  MALIK S (Univ. Wisconsin Madison, WI, USA) ,  BRUEN R A (Univ. Wisconsin Madison, WI, USA)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 103/104  ページ： 205-211  発行年： 1998年05月 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ源イオン注入(PSII)技術の最近の活動には,工業用...

シソーラス用語： *プラズマ源 ,...
準シソーラス用語： PSII ,...

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分類 (3件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (2件)： 表面改質 ,  PSII