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J-GLOBAL ID：200902158034699458   整理番号：99A0791573

ステップおよびフラッシュインプリントリソグラフィ:高解像度パターニングへの新しいアプローチ

Step and Flash Imprint Lithography: A New Approach to High-Resolution Patterning.

著者 (9件)： COLBURN M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  JOHNSON S (Univ. Texas at Austin, TX) ,  STEWART M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  DAMLE S (Univ. Texas at Austin, TX) ,  BAILEY T (Univ. Texas at Austin, TX) ,  CHOI B (Univ. Texas at Austin, TX) ,  WEDLAKE M (Univ. Texas at Austin, TX) ,  MICHAELSON T (Univ. Texas at Austin, TX) ,  WILLSON C G (Univ. Texas at Austin, TX)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3676  号： Pt.1  ページ： 379-389  発行年： 1999年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： フラッシュ ,  インプリントリソグラフィ ,  高解像度 ,  パターニング