積分X線回折反射係数による様々な完全性を持ったエピタキシャル層の厚さの決定

KYUTT R N; KHAPACHEV YU P

文献

J-GLOBAL ID：200902158074795735 整理番号：94A0562069

積分X線回折反射係数による様々な完全性を持ったエピタキシャル層の厚さの決定

Determination of the thickness of epitaxial layers of different degree of perfection from the integral x-ray diffractional reflection coefficients.

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巻： 38 号： 12 ページ： 1061-1066 発行年： 1993年12月
JST資料番号： E0952A ISSN： 1063-7842 CODEN： TEPHEX 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

様々な構造完全性を持ったヘテロエピタキシャル系GaAlAs...

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半導体薄膜

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