スパッタリングによるTi薄膜の結晶方位の制御

文献

J-GLOBAL ID：200902159237223218 整理番号：99A0692527

Control of crystal orientation of Ti thin films by sputtering.

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資料名：
巻： 44 号： 21/22 ページ： 3945-3952 発行年： 1999年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

析出粒子の動力学的エネルギー及び入射角分布が制御できるスパッ...

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金属薄膜

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