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J-GLOBAL ID：200902159969663946   整理番号：93A0747592

単色陽電子ビームによるSiO₂膜中のイオン注入誘起欠陥の分析

著者 (2件)： 藤浪真紀 (新日本製鉄) ,  CHILTON N B (新日本製鉄)
資料名： 分析化学討論会講演要旨集  (分析化学)
巻： 54th  ページ： 95-96  発行年： 1993年 
JST資料番号： X0009A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (7件)： 単色 ,  陽電子ビーム ,  SiO2 ,  イオン注入 ,  誘起 ,  欠陥 ,  分析