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J-GLOBAL ID：200902160960810251   整理番号：99A0380275

次世代半導体製造環境に向けて 統計学応用による現場設置フィルタリーク試験の高速化 ISO/TC209に提案しているリーク試験法の考え方について

Cleanroom Technology for LSIs in Next Generation. High Scan Rate Leak Test Method for an Installed Filter System by Applying Statistics.

著者 (2件)： 鈴木国夫 (テクノ菱和 技開研) ,  大塚一彦 (ニッタ)
資料名： エアロゾル研究  (Journal of Aerosol Research)
巻： 14  号： 1  ページ： 33-37  発行年： 1999年03月20日 
JST資料番号： L0641A  ISSN： 0912-2834  CODEN： EAKEEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 逐次検定法と同様の統計的手法をリークスキャンに関する米国IE...

シソーラス用語： *空気濾過器 ,...
準シソーラス用語： ISO/TC209 ,...

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分類 (3件)： 技術の標準化・規格  (HA02000V) ,  固体デバイス一般  (NC03010Z) ,  空気浄化  (PC02060X)

引用文献 (11件)：

• Working Draft. ISO/TC209/WG3/Metrology and Test Methods/Annex B6 : Installed filter system leakage test. 1998
• IES-RP-CC006.2 : Testing Cleanrooms. 1993
• IES-RP-CC001.3 : HEPA and ULPA Filters. 1993
• McDONALD, B. J. IES. 1993, 36, 28-37
• クリーンルーム中における浮遊微粒子の濃度測定方法及びクリーンルームの空気清浄度の評価. 1989

タイトルに関連する用語 (10件)： 次世代 ,  半導体製造 ,  環境 ,  統計学 ,  応用 ,  現場 ,  リーク試験 ,  高速化 ,  ISO ,  提案