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J-GLOBAL ID：200902161108587631   整理番号：00A0918089

飽和TMAHW溶液でエッチングされるシリコン微小構造体の表面品質に及ぼす界面活性剤の影響

Effect of surfactant on surface quality of silicon microstructures etched in saturated TMAHW solutions.

著者 (4件)： SARRO P M (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  BRIDA D (IRST, Trento, ITA) ,  VLIST W (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  BRIDA S (IRST, Trento, ITA)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： A85  号： 1/3  ページ： 340-345  発行年： 2000年08月25日 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水酸化テトラメチルアンモニウム水(TMAHW)溶液中のシリコ...

シソーラス用語： 水溶液 ,...
準シソーラス用語： TMAH水溶液

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 飽和 ,  溶液 ,  エッチング ,  シリコン ,  微小構造体 ,  表面品質 ,  界面活性剤