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J-GLOBAL ID：200902161203765580   整理番号：02A0236501

自己集合によるμmサイズのパターン化多面体の製作

Fabrication of Micrometer-Scale, Patterned Polyhedra by Self-Assembly.

著者 (5件)： GRACIAS D H (Harvard Univ., MA, USA) ,  KAVTHEKAR V (Harvard Univ., MA, USA) ,  LOVE J C (Harvard Univ., MA, USA) ,  PAUL K E (Harvard Univ., MA, USA) ,  WHITESIDES G M (Harvard Univ., MA, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 14  号： 3  ページ： 235-238  発行年： 2002年02月05日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 現存の二次元微細加工法に基づいた新規な方法で微細な三次元多面...

シソーラス用語： *多面体 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 自己集合 ,  サイズ ,  パターン化 ,  多面体 ,  製作