rf-マグネトロンスパッタにより調製したITO膜の特性評価

文献

J-GLOBAL ID：200902162411394486 整理番号：02A0517367

Preparation and Characterization of ITO Films Using the rf-Magnetron Sputtering Method.

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資料名：
号： 11 ページ： 76-79 発行年： 2001年
JST資料番号： L1465A ISSN： 0917-7612 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

ITO(インジウムすず酸化物)膜をC(p)/Si(n)接合型...

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酸化物薄膜 , 太陽電池

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