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J-GLOBAL ID：200902162656168546   整理番号：93A0904161

EXAFS analysis of dilute magnetic semiconductor thin films synthesized by the ion beam technique.

著者 (9件)： YU K M (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  AGER J W III (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  BOURRET E (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  DERHACOBIAN N (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  GIAUQUE R (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  JAKLEVIC J M (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  BECLA P (MIT, MA) ,  ROSSINGTON C (Lawrence Berkeley Lab., CA) ,  YAO X (Lawrence Berkeley Lab., CA)
資料名： Applications of Synchrotron Radiation Techniques to Materials Science  (Applications of Synchrotron Radiation Techniques to Materials Science)
ページ： 179-184  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930545  ISBN： 1-55899-203-0  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： EXAFS