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J-GLOBAL ID：200902163038218482   整理番号：00A0437574

KOHとTMAH溶液の異方性エッチング特性の比較

Differences in anisotropic etching properties of KOH and TMAH solutions.

著者 (4件)： SHIKIDA M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SATO K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TOKORO K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  UCHIKAWA D (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： A80  号： 2  ページ： 179-188  発行年： 2000年03月10日 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ構造製造には異方性化学ウェットエッチングが鍵となる技...

シソーラス用語： 単結晶 ,...
準シソーラス用語： TMAH【エッチング液】

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： KOH ,  TMAH ,  溶液 ,  異方性 ,  エッチング特性