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J-GLOBAL ID：200902163387001253   整理番号：02A0616898

ブロック共重合体を用いるパターン形成媒質のためのナノパターン形成

Nano-Patterning for Patterned Media using Block-Copolymer.

著者 (6件)： ASAKAWA K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  HIRAOKA T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  HIEDA H (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SAKURAI M (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KAMATA Y (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  NAITO K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 3  ページ： 465-470  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブロック共重合体は,秩序無秩序転移点より低い温度でアニールす...

シソーラス用語： パターン形成 ,...
準シソーラス用語： アニール

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  各種写真法  (ZA03040M)

引用文献 (11件)：

• 1). F. M. Houlihan et al: "Advances in Resist Technology and Processing XVIII" Proc. SPIE, vol 4345, (2001)
• 2). C. J. Progler et al: "Optical Microlithograpphy XIV" Proc.SPIE, vol 4346, (2001)
• 3). H. Hasegawa, H. Tanaka, K. Yamasaki, T. Hashimoto: Macromolecules, 20, 1651(1987)
• 4). F. S. Bates, G. H. Fredrickson: Physics Today, 52, 32(1999)
• 5). K. Douglas, N. Clerk, K. J. Rothschild: App. Phy. Left. 48, 676(1986)

タイトルに関連する用語 (4件)： ブロック共重合体 ,  パターン形成 ,  媒質 ,  ナノパターン形成