文献
J-GLOBAL ID：200902164362454322   整理番号：96A0263380

クラスターイオンビームと材料科学

Ionized Cluster Beam Technology for Material Science.
著者 (1件)：
高木俊宜

高木俊宜 について

(イオン工学研)

イオン工学研 について


資料名：
表面科学  (JSSSJ)

表面科学 について


巻： 17  号： 2  ページ： 81-89  発行年： 1996年02月 
JST資料番号： F0940B  ISSN： 0388-5321  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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薄膜形成,結晶成長におけるイオンの役割を運動エネルギー的効果...
シソーラス用語：
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イオンビーム蒸着

イオンビーム蒸着 について

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クラスタイオンビーム蒸着

クラスタイオンビーム蒸着 について

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分類 (2件)：
分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

,  固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

引用文献 (48件)：
  • 高木俊宜. 応用物理. 1984, 53, 695
  • 高木俊宜. 応用物理. 1982, 51, 1070
  • TAKAGI, T. Thin Solid Films. 1982, 92
  • 高木俊宜. 日経エレクトロニクス. 1981, 279, 188
  • 高木俊宜. 化学と工業. 1982, 35, 848
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タイトルに関連する用語 (2件)：
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クラスターイオンビーム

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材料科学

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